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J-GLOBAL ID：200903089236149281

アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路

Inventor： 林田 茂 ,  田谷 昌人 ,  森田 正樹
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994175823
Publication number (International publication number)：1996041329
Application date： Jul. 27, 1994
Publication date： Feb. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】 耐熱性に優れ、かつ光スイッチングや変調等の光信号処理に優れたアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供する。【構成】 フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が下記式(I)【化1】で表されるN,N′-ジ-(p-ニトロフェニル)-1-メチル-1,2-エタンジアミンであるアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路。

Claim (excerpt)：

フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が下記式(I)【化1】で表されるN,N′-ジ-(p-ニトロフェニル)-1-メチル-1,2-エタンジアミンであるアクティブ光導波路用組成物。

IPC (6)：

C08L 79/08 LRB ,  C08K 5/16 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/03 501 ,  G02F 1/313

FI (3)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 J ,  G02B 6/12 M