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J-GLOBAL ID:200903089243605314

巨視的に配向した架橋ポリマーの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1998529354
Publication number (International publication number):2000515201
Application date: Mar. 19, 1998
Publication date: Nov. 14, 2000
Summary:
【要約】本発明は配向した架橋ポリマーの製造方法に関し、該方法は、液晶組成物の配向及び重合工程を含む。液晶組成物は、重合の間に秩序度を減少させるモノマーを含む。本発明の方法は比較的低い度合いの散乱を有する光学的素子及び、低い度合いの光学的異方性を有する配向した架橋ポリマーを得ることを可能にする。
Claim (excerpt):
1.少なくとも液晶モノマーを含有する重合性液晶組成物を配向させて次いで重 合させる、配向した架橋ポリマーの製造方法において、重合性液晶組成物は更 に、秩序度度を低下させるモノマーを含み、該モノマーは重合の間に前記液晶 組成物の秩序度度を低下させることを特徴とする配向した架橋ポリマーの製造 方法。2.秩序度度を低下させるモノマーは、化学式Y-L3-M-L4-Yを満たし、 ここで Yは、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基、ビニルオキシ基及びエポキ シ基から成る群より選ばれる重合性基であり、 -L3-及び-L4-は、独立して選択され、直接結合又は-CH2-を示す リンカー単位であり、 -M-は、-M1-M2-,-M1-M3-M2-,-M1-COO-M2-,- M1-COO-M3-OCO-M2-,-M1-COO-M3-COO-M2-及び M1-OCO-M3-COO-M2-から成る群より選ばれる中間層形成単位で あり、 -M1-及び-M2-は、単独して選択され、1,4-フェニレン基又は1, 4-シクロヘキシレン基を示しており、 -M3-は、 を示し、 -K1及び-K2は、-H,-CH3,-CN及び-Clから成る群より独立 して選ばれる ことを特徴とする請求項1記載の方法。3.秩序度を低下させるモノマーは、式Y-L3-M-Pを満たし、ここで Yは、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基、ビニルオキシ基及びエポキ シ基から成る群より選ばれる重合性基であり、 -L3は、独立して選択され、直接結合又は-CH2-を示すリンカー単位で あり、 -M-は、-M1-M2-,-M1-M3-M2-,-M1-COO-M2-,- M1-COO-M3-OCO-M2-,-M1-COO-M3-COO-M2-及び M1-OCO-M3-COO-M2-から成る群より選ばれる中間層形成単位で あり、 -M1-及び-M2-は、単独して選択され、1,4-フェニレン基又は1, 4-シクロヘキシレン基を示しており、 -M3-は、 を示し、 -K1及び-K2は、-H,-CH3,-CN及び-Clから成る群より独立 して選ばれ、 Pはシアノ基、アルキル基及びアルコキシ基から成る群より選ばれることを 特徴とする請求項1記載の方法。4.秩序度を減少させるモノマーは、化学式シートの式5〜8の一つを満たすことを特徴とする請求項1記載の方法。5.少なくとも液晶モノマーを含む、重合性液晶組成物において、該重合性液晶 組成物は更に、秩序度度を低下させるモノマーを含み、該モノマーは重合の間 に前記液晶組成物の秩序度度を低下させることを特徴とする重合性液晶組成物 。6.重合性液晶組成物を重合することにより得られる配向した架橋ポリマーにお いて、前記配向した架橋ポリマーは請求項1〜4に記載された方法を用いるこ とにより得られ、また配向した架橋ポリマーの最大屈折率と最低屈折率との間 の差異が0.10より小さいことを特徴とする配向した架橋ポリマー。7.請求項6に記載した配向した架橋ポリマーを含む光学的素子。
IPC (5):
C09K 19/38 ,  C08F216/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  G02B 5/30
FI (5):
C09K 19/38 ,  C08F216/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  G02B 5/30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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