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J-GLOBAL ID：200903089253526188
ミソプロストールの安定化された分散系
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996536512
Publication number (International publication number)：1999506100
Application date： May. 22, 1996
Publication date： Jun. 02, 1999
Summary：
【要約】ミソプロストールの安定な固体状態の無定形分散系を開示している。この分散系はエタノール溶媒法、凍結乾燥技術および噴霧乾燥技術を用いることにより製造され、種々な経路を経てミソプロストールを供給する多種多様な製剤に利用性を有する。
Claim (excerpt)：
ミソプロストールの安定な固体状態の無定形分散系において、ミソプロストールと(a)ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートブチレート、ヒドロキシエチルセルロース、エチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン、デキストラン、デンプン、デキストリン、ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン、キトサン、混合(乳酸/グリコール酸)共重合体(co-(lactic/glycolic)copolymer)、ポリ(オルトエステル)、ポリ(アンヒドレート)、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、エチレンビニルアセテート、レクチン、カルボポール、ケイ素エラストマー、ポリアクリル重合体およびマルトデキストリンからなる群から選ばれる無定形状態の付形剤、あるいは(b)単糖類、二糖類および三糖類からなる群から選ばれる無定形または半結晶性付形剤から選ばれる付形剤とからなる上記分散系。
IPC (4)：
A61K 31/557
, A61K 9/14
, A61K 47/30
, A61K 47/36
A61K 31/557
, A61K 47/30 Z
, A61K 47/36 Z
, A61K 9/14 L
Cited by examiner (2)
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特開昭59-148760
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特開昭59-148760
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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