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J-GLOBAL ID:200903089255728713
レーザ照射装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
則近 憲佑
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992003568
Publication number (International publication number):1993208289
Application date: Jan. 13, 1992
Publication date: Aug. 20, 1993
Summary:
【要約】【構成】 レーザ発振器と、このレーザ発振器から出力されたレ-ザ光のエネルギ分布を平坦化する光学系と、この光学系から出光したレ-ザ光の光路上に配置された櫛形のマスクと、このマスクを透過したレ-ザ光と被照射体とを所定方向に走査する走査手段とを備えたレーザ照射装置。【効果】 オーバーラップ部分での温度上昇が抑制され、下層部の露出現象が抑えられることにより、上層部の特性が破壊されなくなり、高密度化を安定して行えるようになった。
Claim (excerpt):
レーザ発振器と、このレーザ発振器から出力されたレ-ザ光のエネルギ分布を平坦化する光学系と、この光学系から出射したレ-ザ光の光路上に配置され所定の透過部を形成したマスクと、このマスクを透過したレ-ザ光と被照射体とを所定方向に走査する走査手段とを備え、上記透過部は相対向する2辺が上記マスクの折り返し方向に直交する直線部に形成され、これら2辺に直交する他の2辺は互いに1ピッチずれたほぼ櫛形になるとともに互いの谷部の幅が山部の幅よりの大に形成され、上記走査手段は上記透過部を透過したパターンが所定の重なり幅で走査されることを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (4):
B23K 26/06
, H01L 21/3205
, H01S 3/10
, B23K101:40
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