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J-GLOBAL ID:200903089271724680

結晶配向セラミックスの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上野 登
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001124224
Publication number (International publication number):2002321974
Application date: Apr. 23, 2001
Publication date: Nov. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 等方性ペロブスカイト型化合物からなる高配向度の結晶配向セラミックスが製造可能であり、かつ、結晶配向セラミックス中に含まれるAサイト元素の組成制御が容易な結晶配向セラミックスの製造方法を提供すること。【解決手段】 ビスマス層状チタン酸化合物からなり、かつ、その発達面が等方性ペロブスカイト型化合物の擬立方{100}面と格子整合性を有する板状粉末と、この板状粉末と反応して等方性ペロブスカイト型化合物と酸化ビスマスを含む余剰成分とを生成するペロブスカイト生成原料とを混合する(混合工程)。次に、得られた混合物を板状粉末が配向するように成形する(成形工程)。さらに、得られた成形体に含まれる板状粉末とペロブスカイト生成原料とを反応させ、この反応と同時に、又は、反応後に、反応により生成した余剰成分を熱的又は化学的に除去する(反応・除去工程)。
Claim (excerpt):
ビスマス層状チタン酸化合物からなり、かつ、その発達面が等方性ペロブスカイト型化合物の擬立方{100}面と格子整合性を有する板状粉末と、該板状粉末と反応して前記等方性ペロブスカイト型化合物及び酸化ビスマスを含む余剰成分を生成するペロブスカイト生成原料とを混合する混合工程と、該混合工程で得られた混合物を前記板状粉末が配向するように成形する成形工程と、該成形工程で得られた成形体に含まれる前記板状粉末と前記ペロブスカイト生成原料との反応、及び、反応により生成した前記余剰成分の除去を行う反応・除去工程とを備えた結晶配向セラミックスの製造方法。
IPC (2):
C04B 35/46 ,  H01L 41/22
FI (2):
C04B 35/46 J ,  H01L 41/22 Z
F-Term (13):
4G031AA06 ,  4G031AA11 ,  4G031AA35 ,  4G031BA10 ,  4G031CA01 ,  4G031CA02 ,  4G031GA01 ,  4G031GA06 ,  4G031GA08 ,  4G031GA09 ,  4G031GA11 ,  4G031GA15 ,  4G031GA16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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