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J-GLOBAL ID：200903089273017921

電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置

Inventor： 安田 洋 ,  駒見 英明
Applicant, Patent owner： 株式会社アドバンテスト
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998127737
Publication number (International publication number)：1999329322
Application date： May. 11, 1998
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 1枚のウエハ上のチップを並行して同時に露光できるマルチコラム電子ビーム露光装置を低コストで実現する。【解決手段】 偏向量の大きな主偏向器16と、偏向量の小さな副偏向器14とを有し、主偏向器用データ62と副偏向器用データ61に従って電子ビームを偏向しながら試料に照射する複数のコラム8-1,8-2,8-3,8-4 を備え、1枚のウエハ50に並行してパターンを露光する電子ビーム露光装置において、あらかじめ測定した各コラムの光軸のずれを記憶するずれ量メモリ63と、各コラムの光軸のずれに応じて各コラム毎に主偏向器用データ62のみを補正する補正手段64とを備え、同時に同一パターンを露光する。

Claim (excerpt)：

偏向量の大きな主偏向器と偏向量の小さな副偏向器とを有し、主偏向器用データと副偏向器用データに従って電子ビームを偏向しながら試料に照射するコラムを複数使用して1枚のウエハに並行してパターンを露光する電子ビーム露光方法において、各コラムの光軸のずれをあらかじめ測定して記憶しておき、各コラムの光軸のずれに応じて各コラム毎に前記主偏向器用データのみを補正して、同時に同一パターンを露光することを特徴とする電子ビーム露光方法。

IPC (3)：

H01J 37/147 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/027

FI (3)：

H01J 37/147 C ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 H