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J-GLOBAL ID：200903089274512233
X線露光用マスクの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 敬四郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992139382
Publication number (International publication number)：1993335217
Application date： May. 29, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：
【要約】【目的】 X線透過膜(マスク基板)上に形成したX線吸収体膜の加工を含むX線露光用マスクの製造方法に関し、所望形状からの変形の少ないX線透過パターンを得ることができるX線露光用マスクの製造方法を提供するを目的とする。【構成】 X線透過膜上にX線吸収体膜を形成する工程と、前記X線吸収体膜に働く内部応力を測定する工程と、前記X線吸収体膜を所定マスク形状にパターニングした時、応力分布の変化により生じるマスクの歪をシミュレートする工程と、前記マスク歪を補償するように逆方向に変形させたパターンで前記X線吸収体膜をパターニングする工程とを含む。
Claim (excerpt)：
X線透過膜(2)上にX線吸収体膜(3)を形成する工程と、前記X線吸収体膜(3)に働く内部応力を測定する工程と、前記X線吸収体膜(3)を所定マスク形状にパターニングした時、応力分布の変化により生じるマスクの歪をシミュレートする工程と、前記マスク歪を補償するように逆方向に変形させたパターンで前記X線吸収体膜(3)をパターニングする工程とを含むX線露光用マスクの製造方法。
IPC (2)：
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