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J-GLOBAL ID：200903089292683401

電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  阿出川 豊
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000296777
Publication number (International publication number)：2002107920
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足し、更に半導体素子の量産性に適合した高加速電圧の次世代EB照射装置(スループット向上を目指した、EBブロック照射機又はEBステッパー(逐次縮小投影照射機))に対応できる、高感度を示す電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)特定構造のN-オキシイミドスルホニル基を有する繰り返し単位を構成成分とする樹脂を含有する、電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(Ia)又は(Ib)で示されるN-オキシイミドスルホニル基を有する繰り返し単位を構成成分とする樹脂を含有する、電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。【化1】式中、R00、R0、R1、R2、R3は、同一でも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、1価又は2価の芳香族、脂肪族、又は脂環族炭化水素基、ハロゲン原子、アシルオキシ基を表す。Zは、-C(R01)(R02)-、-O-、-N(R03)-を表す。R01〜R03は、水素原子、置換基を有していてもよい、1価の芳香族、脂肪族、又は脂環族炭化水素基を表す。またR00、R0、R1、R2の2つが結合し、炭素-炭素結合、又はヘテロ原子を含んでも良い5〜7員環の芳香族、又は脂環族炭化水素を形成しても良い。更に、一般式(Ib)において、R1あるいはR2、R00あるいはR0及びZの群うち2つ又は3つが結合して環を形成しても良い。

IPC (7)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08L 41/00 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/00 ,  C08L 41/00 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (37)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002EH097 ,  4J002EL097 ,  4J002EN028 ,  4J002EN068 ,  4J002ER008 ,  4J002ER028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU078 ,  4J002EU118 ,  4J002EU128 ,  4J002EU238 ,  4J002EV236 ,  4J002EV256 ,  4J002EV286 ,  4J002EV296 ,  4J002FD146 ,  4J002FD207 ,  4J002FD208 ,  4J002GP03