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J-GLOBAL ID:200903089293760108

感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  亀岡 幹生 ,  安藤 克則
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006194587
Publication number (International publication number):2008020838
Application date: Jul. 14, 2006
Publication date: Jan. 31, 2008
Summary:
【課題】高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度である感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】スルホニウムトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェートである光カチオン重合開始剤(A)と下記一般式(1)で表される多官能エポキシ樹脂(B)(式中R1、R2はそれぞれ独立に水素原子、またはメチル基を示し、t及びu並びにvはそれぞれ平均値であり独立に1以上の実数を表し、その和は3〜30の実数を表す)を含有してなる感光性樹脂組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt):
スルホニウムトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロホスフェートである光カチオン重合開始剤(A)と下記一般式(1)で表される多官能エポキシ樹脂(B)
IPC (4):
G03F 7/029 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  C08G 59/68
FI (4):
G03F7/029 ,  G03F7/038 503 ,  G03F7/004 512 ,  C08G59/68
F-Term (18):
2H025AA03 ,  2H025AB11 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BD03 ,  2H025BD23 ,  2H025BJ04 ,  2H025CA48 ,  2H025CB30 ,  2H025EA08 ,  2H025FA15 ,  2H025FA29 ,  4J036AD08 ,  4J036GA03 ,  4J036GA22 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (10)
  • USP5502083
  • USP5264325
  • USP6368769 B1
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Cited by examiner (1)
  • 予約の確保と解除の方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-050287   Applicant:株式会社ソリトンシステムズ

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