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J-GLOBAL ID：200903089296185872

ガスクロマトグラフ装置

Inventor： 大宮 康二
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 西岡 義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997262021
Publication number (International publication number)：1999101788
Application date： Sep. 26, 1997
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】 試料の吸着が少ない試料気化室を備えたガスクロマトグラフ装置を提供する。【解決手段】 試料気化室10内のガラスインサート20の内壁面を低反応性の金属膜21でコーティングして、試料の吸着を低減するようにする。

Claim (excerpt)：

試料気化室を有するガスクロマトグラフ装置において、試料気化室内に取り付けるインサートの内壁面を低反応性の金属でコーティングしたことを特徴とするガスクロマトグラフ装置。