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J-GLOBAL ID:200903089315541740
寸法安定性を有する基材フィルム及びそれを用いた感光性写真材料
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994106720
Publication number (International publication number):1995319116
Application date: May. 20, 1994
Publication date: Dec. 08, 1995
Summary:
【要約】【目的】温湿度変化(特に湿度変化)に対して高寸法安定性を有し、更に近紫外域である350nm付近の光線透過性が特に優れる基材フィルム、及びそれを用いた感光性写真材料の提供。【構成】プラスチックフィルム(A)の片面または両面に、真空薄膜形成技術によって、SiOx(xは1.8より大きく,2.0未満)及びアルカリ土類金属のフッ化物からなる薄膜層(B)、又はSiOx(xは1.8より大きく,2.0未満),アルカリ土類金属のフッ化物及びマグネシウム酸化物からなる薄膜層(B)を形成してなる基材フィルム、及び更にその基材フィルムの片側または両側に感光層(C)を設け、必要に応じて片側に導電層(D)を設けてなる感光性写真材料。
Claim (excerpt):
プラスチックフィルム(A)の片面または両面に、真空薄膜形成技術によって、SiOx(xは1.8より大きく,2.0未満)及びアルカリ土類金属のフッ化物からなる薄膜層(B)を形成してなる寸法安定性を有する基材フィルム。
IPC (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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蒸着フィルムおよびその透明化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-078551
Applicant:東洋インキ製造株式会社
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特開平4-165064
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バリア性包装袋
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-289263
Applicant:東洋紡績株式会社
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寸法安定性写真材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-357118
Applicant:アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップ
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