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J-GLOBAL ID：200903089327857688

ホログラムの作製方法および装置

Inventor：
戸田 敏貴

About 戸田 敏貴

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本田 捷夫

About 本田 捷夫


Applicant, Patent owner：
凸版印刷株式会社

About 凸版印刷株式会社

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本田 捷夫

About 本田 捷夫


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998217457
Publication number (International publication number)：2000047553
Application date： Jul. 31, 1998
Publication date： Feb. 18, 2000
Summary：
【要約】【課題】空間光変調素子による位相および/または振幅変調が不十分であっても、望ましい干渉縞パターンを有するホログラムを精度良く作製すること。【解決手段】コンピュータにより、所望の再生波面に関するホログラム面上での位相および/または振幅の分布を計算し、空間光変調素子2により、コンピュータで計算された位相および/または振幅の分布をレーザー光に与えて物体光1A'とし、結像系31,32 により、空間光変調素子2による物体光1A' の位相および/または振幅の分布を、結像系内の上記変調された物体光1A' のフーリエ面付近に配置された所望の光成分だけを透過させる遮光手段4を透過させつつ結像してホログラム記録用の感光材料5に入射させ、感光材料5に、物体光1A' と可干渉性のある参照光1Bを入射させて両者の干渉により干渉縞を記録する。
Claim (excerpt)：
任意の波面を再生するためのホログラムを作製する方法において、コンピュータにより、所望の再生波面に関するホログラム面上での位相および/または振幅の分布を計算し、空間光変調素子により、前記コンピュータで計算された位相および/または振幅の分布をレーザー光に与えて物体光とし、結像系により、前記空間光変調素子による物体光の位相および/または振幅の分布を、前記結像系内の前記変調された物体光のフーリエ面付近に配置された所望の光成分だけを透過させる遮光手段を透過させつつ結像してホログラム記録用の感光材料に入射させ、前記感光材料に、前記物体光と可干渉性のある参照光を入射させて両者の干渉により干渉縞を記録するようにしたことを特徴とするホログラムの作製方法。
F-Term (5)：
2K008FF27 ,  2K008HH01 ,  2K008HH06 ,  2K008HH25 ,  2K008HH26
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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