ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999082407
Publication number (International publication number)：1999344808
Application date： Mar. 25, 1999
Publication date： Dec. 14, 1999
Summary：

【要約】【課題】高解像力を有し、孤立パターンの飛びの防止を改良し、また、現像残渣(スカム)および定在波が生じなく、経時的寸法安定性も良い、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】特定の特定の構造単位を少なくとも有する共重合体Aと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を少なくとも含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(I)、(II)及び(III) で表される構造単位を少なくとも有する共重合体Aと、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)〜(III) 中、R1 及びR2 は、互いに独立して水素原子またはメチル基、R3 は置換されてもよい3級アルキル基もしくは置換されてもよい3級シクロアルキル基を表す。Xは2価の有機残基を表す。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , C08F212/04 , C08F220/18 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , C08F212/04 , C08F220/18 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-270332 Applicant：日本合成ゴム株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-187942 Applicant：日本合成ゴム株式会社
架橋されたポリマー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-098487 Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド

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