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J-GLOBAL ID:200903089377835570

光触媒皮膜およびその形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岸本 瑛之助 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998225736
Publication number (International publication number):2000051708
Application date: Aug. 10, 1998
Publication date: Feb. 22, 2000
Summary:
【要約】【課題】 光照射環境あるいは暗所のいずれにおいても、優れた抗菌、防かび、および消臭機能を有しかつ加工性・耐光性に優れた光触媒効果を持ち、また皮膜焼成時の熱による変色が小さくかつ防かび機能を発揮できる程度の銀塩を添加した場合にも紫外線による変色が小さいうえに、金属、プラスチックス等のあらゆる基材の表面に形成することができる光触媒皮膜を提供する。【解決手段】 光触媒皮膜は、式RSi(X)3 で表される3官能シランと、式Si(X)4 で表される4官能シランとの加水分解・重縮合物と、光触媒としての二酸化チタン粒子と、抗菌剤・防かび剤としての銀と、抗菌剤としての銅とよりなる。光触媒皮膜の形成方法は、上記3官能シランと4官能シランとを、有機溶媒、水、および酸触媒、銀塩、銅塩の存在下で、加水分解・重縮合して光触媒皮膜形成用ゾルを形成する。このゾルを光触媒としての二酸化チタン粒子と混合し、混合物を基材に塗布し、乾燥および/または熱処理する。
Claim (excerpt):
式RSi(X)3 (式中、Rはアルキル基、フェニル基、またはビニル基よりなる炭化水素基、Xはアルコキシル基、またはハロゲンである)で表される3官能シランと、式Si(X)4 (式中、Xはアルコキシル基、またはハロゲンである)で表される4官能シランとの加水分解・重縮合物と、光触媒としての二酸化チタン粒子と、抗菌剤・防かび剤としての銀と、抗菌剤としての銅とよりなる、消臭、抗菌、防かび機能を有しかつ加工性・耐光性に優れた光触媒皮膜。
IPC (11):
B01J 35/02 ,  A01N 25/10 ,  A01N 25/34 ,  A01N 59/06 ,  A01N 59/16 ,  A01N 59/16 AJA ,  A01N 59/20 ,  C08K 3/08 ,  C08K 3/22 ,  C08L 83/04 ,  C01G 23/047
FI (11):
B01J 35/02 J ,  A01N 25/10 ,  A01N 25/34 Z ,  A01N 59/06 Z ,  A01N 59/16 A ,  A01N 59/16 AJA Z ,  A01N 59/20 Z ,  C08K 3/08 ,  C08K 3/22 ,  C08L 83/04 ,  C01G 23/047
F-Term (51):
4G047CA05 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G069AA04 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB02A ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC31A ,  4G069BC31B ,  4G069BC32A ,  4G069BC32B ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069BE01A ,  4G069BE01B ,  4G069BE01C ,  4G069CA01 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA20 ,  4G069FA06 ,  4G069FC08 ,  4H011AA02 ,  4H011AA03 ,  4H011BA01 ,  4H011BA06 ,  4H011BB18 ,  4H011BC19 ,  4H011DA11 ,  4H011DC10 ,  4H011DH07 ,  4J002CP031 ,  4J002CP081 ,  4J002CP141 ,  4J002DA077 ,  4J002DD077 ,  4J002DE097 ,  4J002DE136 ,  4J002DE148 ,  4J002DE247 ,  4J002DF037 ,  4J002DG047 ,  4J002FD187 ,  4J002GH00 ,  4J002HA04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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