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J-GLOBAL ID：200903089400726279

光素子および光素子の製造方法および光導波路の製造方法

Inventor： 山本 和久 ,  水内 公典 ,  山本 博昭
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992252598
Publication number (International publication number)：1994102554
Application date： Sep. 22, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 光導波路および光波長変換素子等の光素子の製造方法に関するもので光導波路の表面荒れをなくし、損失を少なくし、また基板と同程度の非線形性を得る。【構成】 LiTaO3基板1aにTa6によるマスクパターンを形成しその後、燐酸リチウムを加えたピロ燐酸中でプロトン交換法を行い高屈折率層5を形成する。この高屈折率層5を赤外線加熱装置により460°C、10秒間熱処理し結晶性を回復させ非線形性が大きく閉じ込めの良い光導波路2を製造する。【効果】 燐酸をリチウム塩で希釈することにより、低損失で非線形光学効果の大きな光導波路が得られる。

Claim (excerpt)：

リチウム塩を加えた燐酸中で、LiNbxTa1-xO3(0≦x≦1)基板を熱処理することで形成された高屈折率層を備えたことを特徴とする光素子。

IPC (2)：

G02F 1/37 ,  G02B 6/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-110805