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J-GLOBAL ID：200903089427303280

複合酸化物薄膜の形成方法

Inventor： 安部 良夫 ,  浜地 幸生 ,  坂部 行雄
Applicant, Patent owner： 株式会社村田製作所
Agent (1)： 西澤 均
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991255671
Publication number (International publication number)：1993058635
Application date： Sep. 06, 1991
Publication date： Mar. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 煩雑な工程によることなく、また、基材を構成する材料の種類や基材の形状に制約されることなく、基材の表面に、均一で緻密なチタンと鉛の複合酸化物薄膜を形成する。【構成】 鉛イオン、六フッ化チタン酸イオン及びホウ酸イオンを含有する水溶液に基材を浸漬することにより、該基材の表面にチタンと鉛の複合酸化物薄膜を形成する。水溶液中の、鉛イオン、六フッ化チタン酸イオン,及びホウ酸イオンの濃度は、Pb2+,TiF62-,BO32-に換算して、Pb2+ :0.01〜1000mM/lTiF62-:0.01〜 500mM/lBO32- :0.03〜3000mM/lの範囲とする。

Claim (excerpt)：

鉛イオン、六フッ化チタン酸イオン及びホウ酸イオンを含有する水溶液に基材を浸漬することにより、該基材の表面にチタンと鉛の複合酸化物薄膜を形成することを特徴とする複合酸化物薄膜の形成方法。

IPC (3)：

C01G 23/00 ,  H01B 3/00 ,  H01B 19/00 321