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J-GLOBAL ID：200903089445533609
成膜装置及び成膜方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大岩 増雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995013193
Publication number (International publication number)：1996199345
Application date： Jan. 30, 1995
Publication date： Aug. 06, 1996
Summary：
【要約】【目的】 蒸着物発生源9から直接被蒸着体16に蒸着体28を成膜できない場合にも、被蒸着部に成膜することができる成膜装置を提供する。【構成】 真空室1内に設けられた蒸着体発生源9から出射された蒸着体28が、加熱可能に構成された反射体29により、被蒸着体16の被蒸着部に向けて反射され、被蒸着部16に成膜されるものである。
Claim (excerpt)：
所定の真空度に保持された真空室と、この真空室内に蒸着体を出射させるか、または蒸着体を所定の方向に出射させる蒸着体発生源と、この蒸着体発生源から出射された蒸着体を被蒸着部に向けて反射させるとともに、加熱可能に構成された反射体とを備えたことを特徴とする成膜装置。
IPC (2)：
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