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J-GLOBAL ID：200903089457334296

インジウム・スズ酸化物膜用ターゲット

Inventor： 福島 英子 ,  山田 信行 ,  椙原 徹
Applicant, Patent owner： 日立金属株式会社
Agent (1)： 大場 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995044915
Publication number (International publication number)：1996218165
Application date： Feb. 09, 1995
Publication date： Aug. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、突起の形成メカニズムを詳細に検討することにより、安定した寿命を有し、かつ長寿命のインジウム・スズ酸化物膜用ターゲットを提供することを目的とする。また、前記目的に加えてスパッタリング中の成膜速度やスパッタ電圧の変化等の成膜条件の不安定化が発生することなく品質の高いITO膜を安定して得ることのできるインジウム・スズ酸化物膜用ターゲットを提供することを目的とする。【構成】 実質的にインジウム、スズおよび酸素からなる焼結体であり、単位面積当たりに存在する直径3μm以上の気孔数が2500個/mm2〜20000個/mm2であるインジウム・スズ酸化物膜用ターゲット。

Claim (excerpt)：

実質的にインジウム、スズおよび酸素からなる焼結体であり、単位面積当たりに存在する直径3μm以上の気孔数が2500個/mm2〜20000個/mm2であることを特徴とするインジウム・スズ酸化物膜用ターゲット。

IPC (7)：

C23C 14/34 ,  B22F 3/11 ,  C01G 19/00 ,  C22C 1/05 ,  C23C 14/08 ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503

FI (7)：

C23C 14/34 A ,  C01G 19/00 A ,  C22C 1/05 J ,  C23C 14/08 D ,  G02F 1/1343 ,  H01B 13/00 503 Z ,  B22F 5/00 101