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J-GLOBAL ID：200903089460211014

ヨウ素化合物と半導体光触媒による水素及び酸素の製造方法

Inventor： 佐山 和弘 ,  荒川 裕則
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004303589
Publication number (International publication number)：2005068007
Application date： Oct. 18, 2004
Publication date： Mar. 17, 2005
Summary：

【課題】半導体光触媒の存在下に光照射を行って、水から水素と酸素を製造するに際し、効率よく、中性や塩基性条件下であっても、又、可視光を利用することができる新たなレドックスを用いる製造方法の提供。【解決手段】)半導体光触媒及び還元状態から酸化状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って水素を製造する工程、及び半導体光触媒及び酸化状態から還元状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って酸素を製造する工程からなることを特徴とする水素及び酸素の製造方法。【選択図面】 なし

Claim (excerpt)：

半導体光触媒及び還元状態から酸化状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って水素を製造する工程、及び半導体光触媒及び酸化状態から還元状態に変化させることができるヨウ素化合物を含む水溶液に、光照射を行って酸素を製造する工程からなることを特徴とする水素及び酸素の製造方法。

IPC (7)：

C01B3/04 ,  B01J23/42 ,  B01J23/58 ,  B01J23/652 ,  B01J35/02 ,  C01B13/02 ,  C25B1/24

FI (7)：

C01B3/04 A ,  B01J23/42 M ,  B01J23/58 M ,  B01J35/02 J ,  C01B13/02 B ,  C25B1/24 C ,  B01J23/64 103M

F-Term (48)：

4G042BA08 ,  4G042BB04 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04B ,  4G069BB06B ,  4G069BC12B ,  4G069BC17A ,  4G069BC18A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC31A ,  4G069BC32A ,  4G069BC33A ,  4G069BC35A ,  4G069BC36A ,  4G069BC50A ,  4G069BC51A ,  4G069BC54A ,  4G069BC55A ,  4G069BC56A ,  4G069BC56B ,  4G069BC58A ,  4G069BC58B ,  4G069BC59A ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC62A ,  4G069BC66A ,  4G069BC67A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069CC33 ,  4G069DA08 ,  4G069EC22Y ,  4G069FA02 ,  4G069FB21 ,  4K021AB11 ,  4K021BA01 ,  4K021BC02 ,  4K021CA06 ,  4K021CA10 ,  4K021DB05 ,  4K021DB31 ,  4K021DC03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特許第2876524号
  
• 光エネルギーの変換方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-241506   Applicant：工業技術院長

Cited by examiner (1)

• 特許第3793800号