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J-GLOBAL ID：200903089535979274

基板の処理システム

Inventor： 和田 栄希 ,  浅井 竜二
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (3)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002277368
Publication number (International publication number)：2004119462
Application date： Sep. 24, 2002
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：

【課題】露光機内に処理するウェハが不足することを防止する。【解決手段】INステージ70と,OUTステージ71を上下2段に備えた受け渡しユニット61は,全体で2段階に上下動する。ウェハ搬送装置80は,DOWN位置の受け渡しユニット61に対してのみアクセスできる。主制御部92は,安全を考慮しOUTステージ71上にウェハがあることを認識している場合,受け渡しユニット61の上下動を行わないように制御している。露光機3からOUTステージ71にウェハWが受け渡された直後には,その情報が主制御部92に通知されず,INステージ71が下降しINステージ71上の別のウェハが露光機3に搬送された後に通知される。この結果主制御部92が上記制御を行っている場合でも,露光機3からウェハが搬出される度に別のウェハが露光機3に搬入され,露光機3内にウェハが不足することはない。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

基板の処理を行う第1及び第2の基板処理装置と, 前記第1の基板処理装置と前記第2の基板処理装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し装置と, 前記受け渡し装置の動作を制御するための制御部と,を備えた基板の処理システムであって, 前記受け渡し装置は,前記第1の基板処理装置から第2の基板処理装置に基板が受け渡される際に基板が載置される第1の載置部と,前記第2の基板処理装置から第1の基板処理装置に基板が受け渡される際に基板が載置される第2の載置部と,を上下2段に備え, 前記受け渡し装置は,上下2段階の第1及び第2の位置に移動可能であり, 前記第1の基板処理装置は,当該第1の基板処理装置内と前記受け渡し装置との間で基板を搬送する基板搬送装置を備え, 前記基板搬送装置は,前記受け渡し装置が第1の位置に移動したときにのみ,当該受け渡し装置の第1の載置部から基板を受け取ることができ,前記受け渡し装置が第2の位置に移動したときにのみ,当該受け渡し装置の第2の載置部に基板を受け渡すことができ, 前記制御部は,第2の載置部に基板が載置されていることを認識している間は,前記受け渡し装置の前記第1の位置への移動を行わないように制御し, 前記基板搬送装置により第2の載置部に基板が受け渡された直後には,前記制御部に対して当該第2の載置部に基板が載置されたことの通知が行われず,前記制御部により受け渡し装置が第1の位置まで移動され,前記第1の載置部上の他の基板が前記基板搬送装置に受け渡された後に,当該制御部に対して前記第2の載置部に基板が載置されたことの前記通知が行われるように構成されていることを特徴とする,基板の処理システム。

IPC (2)：

H01L21/68 ,  H01L21/027

FI (2)：

H01L21/68 A ,  H01L21/30 502G

F-Term (22)：

5F031CA02 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031MA02 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031PA03 ,  5F031PA26 ,  5F046AA17 ,  5F046CD05 ,  5F046DD06 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27 ,  5F046KA07 ,  5F046LA11 ,  5F046LA18