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J-GLOBAL ID：200903089546929767

ウエ-ハ洗浄槽及びそれを用いたウエ-ハ枚葉洗浄装置

Inventor： 佐藤 道久
Applicant, Patent owner： 株式会社エンヤシステム
Agent (1)： 井上 清子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995322426
Publication number (International publication number)：1997148296
Application date： Nov. 17, 1995
Publication date： Jun. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】 少ない洗浄液でウエ-ハの両面を洗浄できるようにしたウエ-ハ洗浄槽を提供する。【解決手段】 槽本体(2)内の支持ピン(14)の上にウエ-ハ(13)を水平に載置する。上記槽本体(2)には、ウエ-ハに沿って流下するよう洗浄液の流入口(3)と、排出口(5)が設けられる。上記ウエ-ハ(13)の側方の側壁(17)の開口部(23)には流量調整体(22)が回転可能に設けられている。上記流量調整体(22)の上面部(26)と開口部(23)の上縁(25)の間には、ウエ-ハの上面に沿って流れる上面流(18)が流出する上部流出口(19)が形成される。上記流量調整体(22)の下面部(28)と上記開口部(23)の下縁(27)の間には、ウエ-ハの下面に沿って流れる下面流(20)が流出する下部流出口(21)が形成される。上記流量調整体(22)を回転させることにより、上記上面流と下面流の流速を等しくして、少ない洗浄液でウエ-ハを洗浄することができる。

Claim (excerpt)：

槽本体内にウエ-ハを水平に保持し、該ウエ-ハに沿って流下するよう洗浄液を供給し、該槽本体の側壁にウエ-ハの上面に沿って流れる上面流とウエ-ハの下面に沿って流れる下面流をそれぞれ流出させるよう上部流出口と下部流出口を設け、該上部流出口と下部流出口の開口面積を調節可能に形成したことを特徴とするウエ-ハ洗浄槽。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 321

FI (2)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 321 A