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J-GLOBAL ID：200903089553495543

高分子相溶溶液及びこれを用いて高分子複合体を製造する方法

Inventor： 大島 淳行 ,  小西 利樹 ,  原 浩司
Applicant, Patent owner： レンゴー株式会社
Agent (3)： 鎌田 文二 ,  東尾 正博 ,  鳥居 和久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002096952
Publication number (International publication number)：2004002490
Application date： Mar. 29, 2002
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：

【課題】カチオン性高分子及びアニオン性高分子からなる均質な高分子複合体を効率よく得ることを目的とする。【解決手段】カチオン性高分子及びアニオン性高分子をそれぞれの濃度が0.1〜30重量%となるように塩類を含む水性媒体に相溶させた高分子相溶溶液を製造し、次いで、この高分子相溶溶液の塩類の濃度を低下させることにより、上記のカチオン性高分子及びアニオン性高分子の複合体を形成させる。

Claim (excerpt)：

カチオン性高分子及びアニオン性高分子をそれぞれの濃度が0.1〜30重量%となるように塩類を含む水系媒体に相溶させた高分子相溶溶液。

IPC (3)：

C08J3/05 ,  C08K3/00 ,  C08L101/12

FI (3)：

C08J3/05 ,  C08K3/00 ,  C08L101/12

F-Term (25)：

4F070AA02 ,  4F070AA03 ,  4F070AA18 ,  4F070AA29 ,  4F070AA38 ,  4F070AB05 ,  4F070AB12 ,  4F070AC18 ,  4F070AC19 ,  4F070AC20 ,  4F070CA13 ,  4F070CB02 ,  4F070CB11 ,  4J002AB03X ,  4J002AB05W ,  4J002BC12X ,  4J002BG01X ,  4J002BJ00W ,  4J002DD056 ,  4J002DD066 ,  4J002DD076 ,  4J002DF036 ,  4J002DG046 ,  4J002DG056 ,  4J002GT00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-088644
  
• 親水性表面処理組成物及び親水性表面処理皮膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-102518   Applicant：日本軽金属株式会社
• 特開平1-156341