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J-GLOBAL ID：200903089584983090

窒素酸化物の浄化方法及び浄化装置

Inventor： 山本 俊昭 ,  楊 禎禄 ,  水野 彰
Applicant, Patent owner： 株式会社三電舍 ,  山本 俊昭 ,  楊 禎禄 ,  水野 彰
Agent (1)： 森 正澄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998226102
Publication number (International publication number)：2000051653
Application date： Aug. 10, 1998
Publication date： Feb. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 環境中における窒素酸化物を効率よく、かつ、低コストで除去し、反応生成物の発生を抑制するこの可能な、窒素酸化物の浄化方法及び浄化装置を提供することを目的とする。【解決手段】 排ガス中に含まれる窒素酸化物の浄化方法及び浄化装置において、排ガスに、大気圧低温非平衡プラズマを印加する工程を備え、前記低温プラズマ印加によって、ガス中のNOが酸化されてNO2が最大値となる値を基準値として、前記低温プラズマの印加電圧を設定し、ガス中に含まれるNOを効率的にNO2に酸化させた後、排ガスに還元剤溶液を接触させる工程を備え、前記低温プラズマ印加による乾式工程と、前記還元剤溶液を用いた湿式工程の二段階の工程、或は、前記乾式工程と湿式工程を組み合わせた半乾式の工程によって、排ガス中の窒素酸化物を除去する窒素酸化物の浄化方法及び浄化装置である。

Claim (excerpt)：

排ガス中に含まれる窒素酸化物を除去する排ガスの浄化方法において、前記排ガスの浄化方法は、排ガスに大気圧低温非平衡プラズマを印加して窒素酸化物を除去するものであって、前記大気圧低温非平衡プラズマ印加によってガス中のNOが酸化されてNO2が最大値となる値を基準値として、前記大気圧低温非平衡プラズマの印加電圧を設定するようにしたことを特徴とする窒素酸化物の浄化方法。

IPC (4)：

B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/77 ,  H05H 1/24

FI (3)：

B01D 53/34 129 C ,  H05H 1/24 ,  B01D 53/34 130 C

F-Term (22)：

4D002AA12 ,  4D002AC01 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA07 ,  4D002BA13 ,  4D002CA06 ,  4D002CA07 ,  4D002DA02 ,  4D002DA13 ,  4D002DA15 ,  4D002EA02 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB04 ,  4D002GB20 ,  4D002HA03