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J-GLOBAL ID：200903089658479390

真空チャンバ

Inventor： 中矢 良 ,  西川 和宏
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 原 謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993157305
Publication number (International publication number)：1995019340
Application date： Jun. 28, 1993
Publication date： Jan. 20, 1995
Summary：

【要約】【構成】 エアロック扉4により、ウェーハ2をイオン注入面を下側にしたまま保持してエアロック室3まで搬送する。エアロック扉4がエアロック室3を閉じるとともにウェーハ2をプラテン5に受け渡すと、エアロック室3内が排気されて真空になる。そして、プラテン5がウェーハ2を固定保持した状態でプラテン駆動機構6により駆動されて垂直に立ち上がる。ウェーハ2に対するイオンビームの照射が終了すると、上記と逆の動作でウェーハ2をエアロック室3に戻す。【効果】 プラテン5がチャンバ本体1内でウェーハ2を搬送するとともに、エアロック室3の内側扉を兼ねることにより、真空チャンバの小型化を図ることができる。また、プラテン5がウェーハ2を固定するので、ウェーハ2の擦れによるパーティクル等の発生がなくなり、ウェーハ2の処理面の汚染を減少させることができる。

Claim (excerpt)：

チャンバ内外に通じるエアロック室と、半導体基板を固定保持するとともにエアロック室をチャンバ内側から開閉するプラテンと、プラテンを上記の閉鎖位置と半導体基板の処理位置との間で移動させるプラテン駆動機構とを備えていることを特徴とする真空チャンバ。

IPC (4)：

F16J 12/00 ,  F16J 13/16 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭58-140961
  
• 特開昭58-140961