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J-GLOBAL ID：200903089683527404

プラズマ処理装置

Inventor： 山内 健資 ,  山田 勝哉
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 大胡 典夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999208381
Publication number (International publication number)：2001035695
Application date： Jul. 23, 1999
Publication date： Feb. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 分布に偏りの無い均一性の高いプラズマを生成するプラズマ装置を提供すること。【解決手段】 マイクロ波を導入するための同軸変換アンテナ4、24の先端に、離間して反射板15を設ける。もしくは、所定の大きさの誘電体22b2を設ける。

Claim (excerpt)：

導波管内を進行したマイクロ波を誘電体窓から透過させ、この誘電体窓により封止されたチャンバ内のガスをプラズマ化して前記チャンバ内の被処理材に処理を施すプラズマ処理装置において、前記導波管の底部には前記チャンバ内に突出する同軸変換アンテナの金属棒が前記誘電体窓に埋設して設けられ、かつ、この誘電体窓に埋設された前記金属棒の先端から離間した位置に前記マイクロ波を反射させる反射板が設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (4)：

H05H 1/46 B ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/30 569 H ,  H01L 21/302 B

F-Term (8)：

5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB32 ,  5F045AA09 ,  5F045BB02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F046MA12