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J-GLOBAL ID：200903089689684560

ポリイミド前駆体およびポリイミド、並びにネガ型感光性材料およびネガ型パターン形成方法

Inventor： 表 利彦 ,  船田 靖人 ,  林 俊一
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993327498
Publication number (International publication number)：1995179604
Application date： Dec. 24, 1993
Publication date： Jul. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】 低熱線膨張性および低弾性であり、多層基板に用いた場合に層間に応力が残存しにくく、クラックや剥離が生じにくい接着性良好なポリイミド前駆体およびポリイミドを提供し、さらに特定の感光剤を含有させたネガ型感光性材料およびネガ型パターン形成方法を提供する。【構成】 3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸誘導体に、ジアミン成分としてパラフェニレンジアミン誘導体およびフッ素化メチル置換ベンジジンを反応させることによってポリイミド前駆体およびポリイミドを合成する。また、上記ポリイミド前駆体に感光剤として特定の4-(2’-ニトロフェニル)-4-ヒドロピリジン誘導体を含有させた感光性材料は、解像度に優れたネガ型パターンが形成することができる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(化1)および(化2)にて示される構造単位を有するポリイミド前駆体。【化1】(但し、式中、R1 およびR2 は水素原子または陽イオン、エステル化反応に用いられた有機基で、かつ少なくとも一方は水素原子であり、R3 は芳香族環に結合した低級アルキル基である。また、mは0または4以下の正の整数であり、nは4以下の正の整数である。)【化2】(但し、式中、R1 およびR2 は水素原子または陽イオン、エステル化反応に用いられた有機基で、かつ少なくとも一方は水素原子である。)

IPC (5)：

C08G 73/10 NTF ,  C08K 5/3412 ,  C08L 79/08 LRB ,  G03F 7/004 504 ,  H05K 3/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 液晶ディスプレイ及び画素並びに作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-329477   Applicant：オーアイエス・オプティカル・イメージング・システムズ・インコーポレイティド