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J-GLOBAL ID：200903089710006390

シルセスキオキサンポリマー組成物

Inventor： 児玉 和美 ,  杉村 正彦 ,  湯田 英子
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993085521
Publication number (International publication number)：1994271772
Application date： Mar. 19, 1993
Publication date： Sep. 27, 1994
Summary：

【要約】【目的】 リフロー性に優れ、かつ耐クラック性が良好な絶縁膜を形成することができるシルセスキオキサンポリマー組成物を提供すること。【構成】 一般式(1)【化1】で表される繰り返し単位、及び所望により一般式(2)【化2】で表される繰り返し単位及び/または一般式(3)【化3】で表される繰り返し単位を有し、フッ素含有量0〜20重量%のシルセスキオキサンポリマー組成物であって、重量平均分子量1,500〜1,000,000のシルセスキオキサンポリマー50〜90重量%、及び重量平均分子量400〜1,500のシルセスキオキサンオリゴマー10〜50重量%を含有することを特徴とするシルセスキオキサンポリマー組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】で表される繰り返し単位、及び所望により一般式(2)【化2】で表される繰り返し単位及び/または一般式(3)【化3】で表される繰り返し単位を有し、フッ素含有量0〜20重量%のシルセスキオキサンポリマー組成物であって、重量平均分子量1,500〜1,000,000のシルセスキオキサンポリマー50〜90重量%、及び重量平均分子量400〜1,500のシルセスキオキサンオリゴマー10〜50重量%を含有することを特徴とするシルセスキオキサンポリマー組成物。

IPC (4)：

C08L 83/05 LRZ ,  C08L 83/08 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/314