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J-GLOBAL ID：200903089743098575

角質層水分量低減抑制組成物

Inventor：
川崎 三美

About 川崎 三美

, 
岩本 努

About 岩本 努


Applicant, Patent owner：
ライオン株式会社

About ライオン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000361917
Publication number (International publication number)：2002128658
Application date： Oct. 24, 2000
Publication date： May. 09, 2002
Summary：
【要約】【課題】 皮膚(頭皮を含む)に対して低刺激であり、洗浄後の角質層水分量の低減を抑制し、うるおい感に優れ、かつ使用後のつっぱり感がなく、しかも、優れた起泡力を有する組成物の提供【解決手段】 アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、半極性界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上の界面活性剤と、1種又は2種以上のノニオン性界面活性剤を含有する角質層水分量低減抑制組成物を提供する
Claim (excerpt)：
次の成分(A)及び(B):(A)アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、半極性界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上の界面活性剤(B)1種又は2種以上のノニオン性界面活性剤を含有する、角質層水分量低減抑制組成物
IPC (3)：
A61K 7/50 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/12
FI (3)：
A61K 7/50 ,  C11D 1/72 ,  C11D 3/12
F-Term (84)：
4C083AA082 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB172 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB352 ,  4C083AB432 ,  4C083AB441 ,  4C083AC022 ,  4C083AC102 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC181 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC392 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC552 ,  4C083AC562 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC812 ,  4C083AC852 ,  4C083AC892 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD282 ,  4C083AD352 ,  4C083AD532 ,  4C083BB04 ,  4C083BB05 ,  4C083BB07 ,  4C083CC23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD41 ,  4C083EE12 ,  4H003AB03 ,  4H003AB06 ,  4H003AB09 ,  4H003AB10 ,  4H003AB22 ,  4H003AB23 ,  4H003AB31 ,  4H003AB38 ,  4H003AB44 ,  4H003AB46 ,  4H003AC03 ,  4H003AC04 ,  4H003AC05 ,  4H003AC08 ,  4H003AC10 ,  4H003AC12 ,  4H003AC13 ,  4H003AC15 ,  4H003AC23 ,  4H003AD02 ,  4H003AD04 ,  4H003DA02 ,  4H003EA19 ,  4H003EA21 ,  4H003EA27 ,  4H003EB04 ,  4H003EB16 ,  4H003EB30 ,  4H003EB37 ,  4H003EB42 ,  4H003EB43 ,  4H003ED02 ,  4H003FA21
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (13)
  • 特開昭54-101441
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-045220   Applicant：花王株式会社
  • 特開昭61-272294
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Cited by examiner (14)
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-045220   Applicant：花王株式会社
  • 特開昭61-272294
  • 特開昭61-272297
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