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J-GLOBAL ID：200903089775400044
蛍光X線分析方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岡田 和秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993127034
Publication number (International publication number)：1994337252
Application date： May. 28, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：
【要約】【目的】 蛍光X線を測定できない元素を含む試料の定量計算を精度よく行える蛍光X線分析方法を提供する。【構成】 組成比を仮定して蛍光X線強度および一次X線のコンプトン散乱線強度の理論値を計算し、蛍光X線強度およびコンプトン散乱線強度の実測値と、前記理論値がそれぞれ一致するように、蛍光X線強度を蛍光X線が測定できる成分元素に、コンプトン散乱線強度を蛍光X線が測定できない成分元素にそれぞれ対応させて、組成比を逐次近似的に修正して組成比を決定する。
Claim (excerpt)：
試料の成分元素の組成比を仮定し、それに基づいて成分元素の蛍光X線強度および一次X線のコンプトン散乱線強度の理論値をそれぞれ計算し、実測される蛍光X線強度を蛍光X線が測定できる成分元素に、実測されるコンプトン散乱線強度を蛍光X線が測定できない成分元素にそれぞれ対応させて、蛍光X線強度およびコンプトン散乱線強度の実測値と前記理論値がそれぞれ一致するように、前記仮定した成分元素の組成比を逐次近似的に修正して試料の成分組成比を決定することを特徴とする蛍光X線分析方法。
Patent cited by the Patent：
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