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J-GLOBAL ID:200903089785768139

排ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 清
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992280647
Publication number (International publication number):1994109224
Application date: Sep. 25, 1992
Publication date: Apr. 19, 1994
Summary:
【要約】【目的】 高温に加熱できる排ガス処理装置を提供する。【構成】加熱炉1の内部に円筒体2が設けられており、排ガス入口10から導入された排ガスは円筒体2の周囲を回りながらLPGバーナ3により加熱され、導出路4を通って冷却排出部5で冷却されて排出される。
Claim (excerpt):
排ガスを導入する円筒形状の加熱炉と、該加熱炉の内部に所定の隙間を空けてほぼ同心に設けられた上部開放の円筒体と、該加熱炉内部と該円筒体とを加熱する加熱装置と、前記円筒体の開放上部から円筒体内部にその下端側が所定の隙間を空けて所定長さ嵌入する導出路と、該導出路に連通し、加熱炉内の高温ガスを冷却して排気する冷却排出部と、を備えたことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (3):
F23G 7/06 101 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/34 134
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開昭47-014733
  • 特開昭58-002520
  • 特開昭47-014733
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