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J-GLOBAL ID：200903089828235059

露光方法、並びにデバイス製造方法

Inventor： 長坂 博之
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004151715
Publication number (International publication number)：2005012194
Application date： May. 21, 2004
Publication date： Jan. 13, 2005
Summary：

【課題】 複数種類のフォトレジスト層がそれぞれ設けられた複数の基板に対して、液浸露光を円滑に行うことができる露光方法を提供する。【解決手段】 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて、基板の液浸条件を決定する。【選択図】 図5

Claim (excerpt)：

投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより前記基板を露光する露光方法において、 前記基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて、前記基板の液浸条件を決定することを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516F

F-Term (5)：

5F046BA03 ,  5F046CB24 ,  5F046CC01 ,  5F046DA27 ,  5F046DC10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 国際公開第99/49504号パンフレット