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J-GLOBAL ID：200903089838589070

エッチング液管理装置

Inventor： 中川 俊元 ,  塚田 光三 ,  小川 修 ,  塩津 信一郎
Applicant, Patent owner： 株式会社平間理化研究所 ,  長瀬産業株式会社
Agent (1)： 塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993326298
Publication number (International publication number)：1995176853
Application date： Nov. 30, 1993
Publication date： Jul. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 液晶基板製造工程において透明導電膜(ITO薄膜)のエッチングに用いられるエッチング液の管理装置であって、エッチング液品質を一定に制御し、かつ液使用量の削減、操業停止時間の減少及びコストの低減を図ることができる装置を提供する。【構成】 透明導電膜用エッチング液の溶解インジウム濃度を吸光光度計16により検出してエッチング液を排出するエッチング液排出手段と、エッチング液の液面レベルを液面レベル計3により検出してエッチング原液と純水とを補給する第一補給手段と、エッチング液の酸濃度を導電率計15により検出してエッチング原液又は純水を補給する第二補給手段とを備えるように構成する。

Claim (excerpt)：

透明導電膜用エッチング液の溶解インジウム濃度を吸光光度計(16)により検出してエッチング液を排出するエッチング液排出手段と、エッチング液の液面レベルを液面レベル計(3)により検出してエッチング原液と純水とを補給する第一補給手段と、エッチング液の酸濃度を導電率計(15)により検出してエッチング原液又は純水を補給する第二補給手段とを備えたことを特徴とするエッチング液管理装置。

IPC (4)：

H05K 3/06 ,  C23F 1/08 101 ,  G01N 27/06 ,  G02F 1/1343