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J-GLOBAL ID：200903089854513628
基板処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997125597
Publication number (International publication number)：1998321692
Application date： May. 15, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：
【要約】【課題】 フットスペースを小さく抑えることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板9に所定の処理を施す基板処理装置において、下方にコータユニット2Uを配置し、その上方に基板9を起立姿勢にて処理する熱処理ユニット3Uを配置する。さらにコータユニット2Uと熱処理ユニット3Uとの間の空間である搬送空間7にて保持手段42が上下および水平方向に移動可能となるよう搬送ロボット4aを設け、コータユニット2Uと熱処理ユニット3Uとの間の基板9の搬送を搬送空間7にて行う。これにより、コータユニット2Uの上方に搬送ロボット4aおよび熱処理ユニット3Uを全て配置することができるとともにコータユニット2Uや熱処理ユニット3Uへの基板9の出入もコータユニット2U上の搬送空間7にて行うことが可能となり、基板処理装置のフットスペースをほぼコータユニット2Uが占める面積に抑えることができる。
Claim (excerpt)：
基板に所定の処理を施す基板処理装置であって、(a) 水平姿勢の前記基板に第1の処理を施す第1処理部と、(b) 前記第1処理部の上方に配置され、起立姿勢の前記基板に第2の処理を施す第2処理部と、(c) 前記第1処理部と前記第2処理部との間の空間である搬送空間において、前記第1処理部と前記第2処理部との間で前記基板を搬送する搬送手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/68 A
, H01L 21/30 565
