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J-GLOBAL ID：200903089872036829

スパッタリングターゲットおよび透明導電膜とその製造方法

Inventor： 光井 彰
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996267499
Publication number (International publication number)：1998110263
Application date： Oct. 08, 1996
Publication date： Apr. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】低抵抗の酸化錫系非晶質透明導電膜を形成できるスパッタリングターゲットおよび耐擦傷性に優れた非晶質透明導電膜とその製造方法の提供。【解決手段】金属Snとフッ素含有化合物とからなるスパッタリングターゲットと該ターゲットを用いた透明導電膜、および錫とフッ素と酸素とを含む非晶質透明導電膜。

Claim (excerpt)：

金属Snとフッ素含有化合物とを含むスパッタリングターゲット。