Pat

J-GLOBAL ID：200903089892521910

レジスト組成物

Inventor： 金子 勇 ,  武部 洋子 ,  児玉 俊一 ,  川口 泰秀
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 野口 恭弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000281168
Publication number (International publication number)：2002090997
Application date： Sep. 18, 2000
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるレジスト用組成物を提供する。【解決手段】式1で表される化合物またはその誘導体からなるジエン系モノマー(a)のモノマー単位と含フッ素ビニルモノマー(b)のモノマー単位とが環化反応した環状構造の繰り返し単位を含み、かつ含フッ素ビニルモノマー(b)に由来するブロック化された酸性基を有する含フッ素ポリマー(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)および有機溶媒(C)を含むことを特徴とするレジスト組成物。CH2=CH-X-CH=CH2 式1式中、Xはメチレン基または酸素原子を表す。

Claim (excerpt)：

式1)で表される化合物またはその誘導体からなるジエン系モノマー(a)のモノマー単位と含フッ素ビニルモノマー(b)のモノマー単位とが環化反応した環状構造の繰り返し単位を含み、かつ含フッ素ビニルモノマー(b)に由来するブロック化された酸性基を有する含フッ素ポリマー(A)、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物(B)および有機溶媒(C)を含むことを特徴とするレジスト組成物。CH2=CH-X-CH=CH2 式1)式中、Xはメチレン基または酸素原子を表す。

IPC (8)：

G03F 7/038 601 ,  C08F216/12 ,  C08F216/14 ,  C08F236/04 ,  C08K 5/00 ,  C08L 29/10 ,  C08L 47/00 ,  H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/038 601 ,  C08F216/12 ,  C08F216/14 ,  C08F236/04 ,  C08K 5/00 ,  C08L 29/10 ,  C08L 47/00 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (41)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB12 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  4J002BE041 ,  4J002BL001 ,  4J002EB106 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002GP03 ,  4J100AE38Q ,  4J100AE64P ,  4J100AS01P ,  4J100AS06P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA07Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA56Q ,  4J100BB12Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC43Q ,  4J100CA04 ,  4J100HA40 ,  4J100HC04 ,  4J100JA38