洗浄装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤隆久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993069800
Publication number (International publication number)：1994277638
Application date： Mar. 29, 1993
Publication date： Oct. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 LCD製造過程などにおける、洗浄処理の効果を高め、特性の優れたLCDを製造することを可能にする洗浄装置を提供する。【構成】洗浄モードにおいては、超純水製造装置4からの超純水は、フィルタ6および切換部8を通り、配管28を介してシャワーノズル10からLCD基板12に対してシャワーリングされる。一方、洗浄停止モードにおいては、切換部8は配管22の方向に切り換えられ、超純水製造装置4からの超純水は、配管20、フィルタ6、配管24、切換部8、配管22を、その流れを停止させることなく巡回する。そのため、洗浄装置2の洗浄停止モードにおいて、バクテリアが超純水中に発生することを有効に防止し、高純度の超純水を用いて洗浄を行うことができる。

Claim (excerpt)：

純水をろ過するフィルタ手段と、洗浄モードにおいて、該フィルタ手段と対象物に純水をシャワーリングする流出口との間に純水流出経路を確立し、洗浄停止モードにおいて前記フィルタ手段を含む純水巡回経路を確立する切換手段とを有することを特徴とする洗浄装置。

IPC (7)：

B08B 3/14 , B01D 35/16 , B08B 3/10 , C02F 1/44 , G02F 1/13 101 , G03F 7/16 , H01L 21/304 341

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭57-080255
特開昭59-032353
特開平3-056182

Show all

Return to Previous Page