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J-GLOBAL ID：200903089896839256

光学素子の製造方法

Inventor： 寺本 みゆき ,  波多野 卓史 ,  西田 直樹 ,  高原 浩滋 ,  関根 孝二郎
Applicant, Patent owner： ミノルタ株式会社
Agent (1)： 佐野 静夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001116409
Publication number (International publication number)：2002311237
Application date： Apr. 16, 2001
Publication date： Oct. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】 工数を削減できるとともに光学特性や耐久性の向上を図ることができる光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 ガラスから成る基板11上にシリコン等の無機材料から成る除去層12を成膜する工程と、除去層12上に光学素子の基体となるポリイミドから成る基体層2を形成する工程と、基体層2を切断する溝4を形成する工程と、基板11を加熱しながら基体層2上に光学多層膜3を成膜する工程と、アルカリ溶液等の溶液中に基板11を浸漬して除去層12をエッチングすることにより基板11と基体層2とを分離して多数の微小な光学素子を得る工程とを備えた。

Claim (excerpt)：

基板上に無機材料から成る除去層を成膜する工程と、前記除去層上に光学素子の基体となる基体層を形成する工程と、前記基体層を切断する溝を形成する工程と、前記基体層上に光学多層膜を成膜する工程と、前記除去層を除去して前記基板と前記基体層とを分離する工程と、を備えたことを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (2)：

G02B 5/28 ,  G02B 1/04

FI (2)：

G02B 5/28 ,  G02B 1/04

F-Term (6)：

2H048GA04 ,  2H048GA09 ,  2H048GA18 ,  2H048GA43 ,  2H048GA60 ,  2H048GA62