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J-GLOBAL ID：200903089915347750

光学装置及び光短波長化方法

Inventor： 真峯 隆義
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 山本 孝久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997162942
Publication number (International publication number)：1998290053
Application date： Jun. 19, 1997
Publication date： Oct. 27, 1998
Summary：

【要約】【課題】電子ビームとレーザビームの1回の衝突によって、1013個オーダー以上の短波長化された光子を得ることができ、例えば、リソグラフィ技術においてレジスト材料を十分に感光させることができ、しかも、デザインルールに適合した所望の波長を有する電磁波(紫外線)を容易に得ることを可能にする光学装置を提供する。【解決手段】光学装置は、電子銃11及び集束レンズ系12から成る電子線源10とレーザ光源20とを備え、電子線源10から射出された相対論的速度で運動する電子ビーム中の電子とレーザ光源20から射出されたレーザビーム中の光子とを衝突させて、電子の有するエネルギーをレーザビームの光子に与え、散乱光を短波長化する光学装置であって、衝突する電子ビームとレーザビームの断面積の内、大きな方の断面積をA(単位:cm2)としたとき、1×10-6≦A≦1×10-1を満足する。

Claim (excerpt)：

電子銃及び集束レンズ系から成る電子線源とレーザ光源とを備え、電子線源から射出された相対論的速度で運動する電子ビーム中の電子とレーザ光源から射出されたレーザビーム中の光子とを衝突させて、電子の有するエネルギーをレーザビームの光子に与え、散乱光を短波長化する光学装置であって、衝突する電子ビームとレーザビームの断面積の内、大きな方の断面積をA(単位:cm2)としたとき、1×10-6≦A≦1×10-1を満足することを特徴とする光学装置。

IPC (3)：

H01S 3/30 ,  G02F 2/02 ,  H01L 21/027

FI (3)：

H01S 3/30 Z ,  G02F 2/02 ,  H01L 21/30 531 S