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J-GLOBAL ID：200903089922391668

欠陥検査装置及び方法

Inventor： 萩原 恒幸 ,  加藤 欣也 ,  末吉 正史
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995136782
Publication number (International publication number)：1996327557
Application date： Jun. 02, 1995
Publication date： Dec. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高コントラストの欠陥検出を高速で行う。【構成】 欠陥検査装置は、回路パターンの無欠陥部分を光学的に消去して欠陥部分を光学的に強調する欠陥強調手段を備えている。この欠陥強調手段は、顕微鏡手段M1の像面内に結像する基板表面と共役な光学像をその像面内において相対的に横ずれした2つの光学像に分割する視野分割手段44,50,52,54と、回路パターンに応じて、2つの光学像の横ずれのシフト量及びシフト方向を調整するシフト調整手段46,56と、2つの光学像の相対的な位相差を調整する位相差調整手段48,58,60とを備えており、干渉画像により無欠陥の周期性パターンを消去し、欠陥部を強調することができる。

Claim (excerpt)：

検査対象の基板を照明する照明手段と、前記基板表面から発生する散乱光を集光し該基板表面と共役な光学像を形成する顕微鏡手段とを備え、回路パターンが形成された基板の欠陥を検出する欠陥検査装置において、前記欠陥検査装置は、回路パターンの無欠陥部分を光学的に消去して欠陥部分を光学的に強調する欠陥強調手段を備えており、この欠陥強調手段は、前記顕微鏡手段の像面内に結像する前記基板表面と共役な光学像を該像面内において相対的に横ずれした2つの光学像に分割する視野分割手段と、前記回路パターンに応じて、前記2つの光学像の横ずれのシフト量及びシフト方向を調整するシフト調整手段と、前記2つの光学像の相対的な位相差を調整する位相差調整手段と、を備えていることを特徴とする欠陥検査装置。