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J-GLOBAL ID：200903089928339099

ポリメチルシルセスキオキサン系重合体およびポリメチルシルセスキオキサン構造を有するポリマー

Inventor： 松 井 二三雄 ,  魚 谷 信 夫 ,  伊 藤 裕 司 ,  村 上 正 敏
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 鈴木 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993066396
Publication number (International publication number)：1994279586
Application date： Mar. 25, 1993
Publication date： Oct. 04, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 ゲル化が生ずることなく製造でき、かつ保存安定性に優れたポリメチルシルセスキオキサンおよび、耐久性、保存安定性に優れたポリメチルシルセスキオキサン構造を有するポリマーの提供。【構成】 ポリメチルシルセスキオキサン(式[I])で示される構造を有し、末端基が水酸基またはアルコキシ基であり、側鎖基R1,R2の60〜95モル%がメチル基であり、5〜35モル%が架橋性反応基または架橋性反応基を置換基として有する有機基であり、残部がアルキル基、(置換)フェニル基、水酸基またはアルコキシ基である。)を、これに含まれる水酸基および/またはアルコキシ基が、合計でこの1分子当り2個以下となるようにトリメチルシリル化してなる、架橋性反応基を有するポリメチルシルセスキオキサン系重合体、および該重合体が上記架橋性反応基によってベースポリマーに結合されているポリメチルシルセスキオキサン構造を有するポリマー。

Claim (excerpt)：

末端基が水酸基またはアルコキシ基であり、側鎖有機基の50〜99.9モル%がメチル基であり、0.1〜40モル%が架橋性反応基または架橋性反応基を置換基として有する有機基であり、残部が炭素原子数2以上のアルキル基、置換または非置換フェニル基、水酸基またはアルコキシ基であるポリメチルシルセスキオキサンを、このポリメチルシルセスキオキサン中に含まれる水酸基および/またはアルコキシ基が、合計でこのポリメチルシルセスキオキサン1分子当り2個以下となるようにトリメチルシリル化してなることを特徴とする、架橋性反応基を有するポリメチルシルセスキオキサン系重合体。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-197423
  
• 特開昭62-197423