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J-GLOBAL ID：200903089928580160

支持体付水素化及び水素処理触媒及びその方法

Inventor： クライド リー オールドリッジ ,  ケニス ロイド リリー
Applicant, Patent owner： エクソン・リサーチ・アンド・エンジニアリング・カンパニー
Agent (1)： 中村 稔 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991336492
Publication number (International publication number)：1994031176
Application date： Dec. 19, 1991
Publication date： Feb. 08, 1994
Summary：

【要約】【構成】 無機酸化物支持体物質上に第VIII族の金属の塩及び/又は錯体及び第VI族の金属のヘテロポリ酸が支持され、第VIII族の金属の濃度が支持体に関して約2ないし20重量%であり、第VI族の金属の濃度が支持体に関して5ないし5重量%であり、実質的に自由水のない触媒を含む優れた水素処理活性を有する触媒組成物。【効果】 本発明の触媒組成物は炭化水素供給原料の水素処理用として極めて有効である。

Claim (excerpt)：

無機酸化物支持体物質上に、Co及びNiから選択される第VIII族の金属の塩及び/又は錯体、及び金属がMo及びWから選択される第VI族の金属のヘテロポリ酸を含む触媒組成物において、第VIII族の金属の濃度が支持体に関して約2ないし20重量%、第VI族の金属の濃度が支持体に関して5ないし50重量%であり、実質的に自由水のない触媒組成物。

IPC (4)：

B01J 31/22 ,  B01J 27/188 ,  C10G 45/08 ,  C10G 49/04