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J-GLOBAL ID:200903089939087679

磁気デイスク及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小川 勝男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991279265
Publication number (International publication number):1993120664
Application date: Oct. 25, 1991
Publication date: May. 18, 1993
Summary:
【要約】【目的】スパッタ磁気ディスクに於て、磁性膜中の酸素濃度を3原子%以下とすることで高保磁力を有する面内記録用磁気ディスクを得る。【構成】非磁性基板にCr下地膜、磁性膜、C保護膜からなるスパッタ磁気ディスクのCoCr系金属磁気記録膜は、スパッタ雰囲気中の水蒸気分圧により、膜中酸素濃度が増加し、これに伴い保磁力が低下する。この為、スパッタ雰囲気中の水蒸気分圧を2×10E-6Torr以下とすることで、磁性膜中の酸素含有量が3原子%以下の低酸素含有量の磁気記録膜を得る。【効果】高密度記録に適した高保磁力媒体を持つ磁気ディスクが得られる。
Claim (excerpt):
非磁性基板上に、Cr下地膜、またはCrを主成分として第2元素を微量に添加したCr合金下地膜と、Coを主成分としてCrが25原子%以下の合金に、第3元素としてTaを8原子%以下、またはPtを20原子%以下を添加して成る1層以上の合金磁性膜と、更にこの上に保護膜、または潤滑剤を塗布した、若しくは保護膜上に潤滑剤を塗布した、磁気ディスクにおいて、該下地膜、及び該Co合金磁性膜中に含有する酸素濃度が3原子%以下で、かつスパッタ形成した多層膜の膜厚方向で、酸素含有量が3原子%以下の一定の濃度であることを特徴とする磁気ディスク。
IPC (3):
G11B 5/66 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/85

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