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J-GLOBAL ID：200903089956481801

マルチ素粒子治療用のシステム及び方法

Inventor： スレイター ジェームズ エム. ,  ミラー ダニエル ダヴリュー. ,  スレイター ジョン ダブリュー.
Applicant, Patent owner： ロマ リンダ ユニヴァーシティ メディカル センター
Agent (1)： 三枝 英二 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996531875
Publication number (International publication number)：1998511022
Application date： Apr. 17, 1996
Publication date： Oct. 27, 1998
Summary：

【要約】システム(100)は2種類の素粒子を患者(142)の体内のターゲットに送る。陽子ビーム治療システム(100)は、患者(142)の体内のターゲットアイソセンター(144)に向けてノズル(150)から放出される陽子のビーム(151)を発生させる。陽子ビーム(151)は、直接患者に当たるか、又は、中性子リッチ物質(154)のプレートからなる中性子源(104)を通る。陽子の一部と中性子が衝突することによって中性子が物質から放出され、これによって陽子と中性子の両方を含むマルチ素粒子ビーム(170)が発生する。中性子は、ビーム内の素粒子の総量中における低比率とするのが望ましい。望ましい実施形態においては、中性子源(104)はベリリウムのプレート(154)からなり、該プレート(154)はノズル(150)と患者(142)との間に挿入される。

Claim (excerpt)：

患者を治療するための放射線治療システムであって、第1のサブアトミック粒子と第2のサブアトミック粒子とを発生させる装置を備えており、該装置は、前記サブアトミック粒子の両方を、患者の内部に位置する選ばれたターゲットに向けることを特徴とする放射線治療システム。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特表平1-502401
  
• 特公平7-032806
  
• 3次元粒子線照射装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-048198   Applicant：住友重機械工業株式会社, 科学技術庁放射線医学総合研究所長
• 放射線治療計画装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-188659   Applicant：日本電気株式会社