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J-GLOBAL ID：200903089970597677

多孔質セラミックスの製造方法

Inventor：
井村 浩一

About 井村 浩一


Applicant, Patent owner：
東芝セラミックス株式会社

About 東芝セラミックス株式会社


Agent (1)： 赤野 牧子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996303712
Publication number (International publication number)：1998130076
Application date： Oct. 28, 1996
Publication date： May. 19, 1998
Summary：
【要約】【課題】 気孔径分布及び気孔分布の均一性が改善された多孔質セラミックスを容易かつ安価に得る。【解決手段】 (1)セラミックス原料、分散媒、擬塑性流動性付与物及び起泡剤を含有するセラミックスラリーを調製するスラリー調製工程、(2)スラリー調製工程からのセラミックスラリーを機械的に撹拌して気泡を形成保持させ、静置時の見かけの粘度が1000cps以上、且つ剪断速度100cm/秒以上の剪断応力下の見かけの粘度が300cps以下とする気泡形成保持工程、(3)気泡形成保持工程からの気泡保持セラミックスラリーを注型し成形する成形工程、(4)成形工程後、静置、ゲル化、架橋重合及び脱溶媒のいずれかの処理によりスラリーの流動性消失させた後、脱型、脱溶媒する成形体形成工程、及び(5)成形体を焼結する工程とからなることを特徴とする多孔質セラミックスの製造方法。
Claim (excerpt)：
(1)セラミックス原料、分散媒、擬塑性流動性付与物及び起泡剤を含有するセラミックスラリーを調製するスラリー調製工程、(2)該スラリー調製工程からのセラミックスラリーを機械的に撹拌して気泡を形成保持させ、静置時の見かけの粘度が1000cps以上、且つ剪断速度100cm/秒以上の剪断応力下の見かけの粘度が300cps以下とする気泡形成保持工程、(3)前記気泡形成保持工程からの気泡保持セラミックスラリーを注型し成形する成形工程、(4)前記成形工程後、静置、ゲル化、架橋重合及び脱溶媒のいずれかの処理によりスラリーの流動性消失させた後、脱型、脱溶媒する成形体形成工程、及び(5)成形体を焼結する工程とからなることを特徴とする多孔質セラミックスの製造方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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