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J-GLOBAL ID：200903089977138112

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

Inventor： 仁王 宏之 ,  田村 一貴 ,  大林 元太郎
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000007617
Publication number (International publication number)：2001201854
Application date： Jan. 17, 2000
Publication date： Jul. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】すなわち本発明は、下記一般式(1)または一般式(2)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物、およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。【化1】(Xはハロゲン原子またはシアノ基を表す。Tはテルペノイド骨格を少なくとも一つ有する有機基を表す。)【化2】(Yは水素原子、メチル基、ハロゲン原子またはシアノ基を表す。Rは炭素数1〜10の炭化水素基、水酸基を表す。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(Xはハロゲン原子またはシアノ基を表す。Tはテルペノイド骨格を少なくとも一つ有する有機基を表す。)

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 33/06 ,  G03F 7/004 503

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 33/06 ,  G03F 7/004 503

F-Term (19)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BF09 ,  2H025BG00 ,  2H025FA17 ,  4J002BG071 ,  4J002BG081 ,  4J002EB106 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV296 ,  4J002EW176 ,  4J002GP03