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J-GLOBAL ID：200903089990487550

高分子化合物の製造方法及び該高分子化合物を用いたレジスト材料

Inventor： 武田 隆信 ,  渡辺 修
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001369729
Publication number (International publication number)：2002234910
Application date： Dec. 04, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：

【要約】【解決手段】 式(1)(R2、R3はアルキル、R5はH、OH、アルキル、置換可アルコキシ、ハロゲン又は酸不安定基、R1、R4はH又はCH3、R6、R7はH、CH3、アルコキシカルボニル、CN、又はハロゲン、R8は3級アルキル、nは0〜4、pは正数、q、rは0又は正数で、qとrが同時に0になることはない。)の繰り返し単位を有する高分子化合物を酸触媒を用いて脱保護反応を行う式(2)の繰り返し単位を有する高分子化合物の製造方法。【化1】【効果】 本発明の方法によって得られた高分子化合物をベース樹脂とするレジスト材料は、溶解コントラスト、解像性が高く、露光余裕度がある。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)【化1】(式中、R2、R3は炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表し、またR2、R3は互いに結合して環を形成してもよい。R5は水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜10の置換可アルコキシ基、ハロゲン原子又は酸不安定基を表し、R1、R4は水素原子又はメチル基を表し、R6、R7は水素原子、メチル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基、シアノ基、又はハロゲン原子を表し、R8は炭素数4〜20の3級アルキル基を表す。また、nは0又は1〜4の正の整数である。pは正数、q、rは0又は正数であるが、qとrが同時に0になることはない。)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を酸触媒を用いて脱保護反応を行うことを特徴とする下記一般式(2)【化2】(式中、p1は正数、p2は0又は正数で、p1+p2=pであり、R1〜R8、n、p、q、rは上記と同様の意味を示す。)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物の製造方法。

IPC (5)：

C08F 8/14 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (5)：

C08F 8/14 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (40)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  4J100AB07P ,  4J100AB08P ,  4J100AB09P ,  4J100AB10P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BB00P ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100CA31 ,  4J100DA38 ,  4J100DA39 ,  4J100HA19 ,  4J100HC13 ,  4J100HC78 ,  4J100HE05 ,  4J100HE14 ,  4J100HE41 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 新規重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-331953   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 新規ポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-360046   Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-318802   Applicant：ジェイエスアール株式会社