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J-GLOBAL ID:200903090000957806
ホウ素含有排水の処理方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998074324
Publication number (International publication number):1999267661
Application date: Mar. 23, 1998
Publication date: Oct. 05, 1999
Summary:
【要約】【課題】 ホウ素含有排水を、従来の凝集沈殿処理法あるいはイオン交換樹脂による処理法の利点を残しながら、より効率的に、かつ低コストで処理する方法を提供する。【解決手段】 ホウ素含有排水である被処理水1を蒸発濃縮塔3などで蒸発処理して濃縮液4と凝縮液5とに分離する第1工程と、第1工程の凝縮液5を凝集沈殿処理またはイオン交換処理してホウ素を除去する第2工程とからなることを特徴とし、イオン交換処理に用いたイオン交換樹脂の再生廃液を中和した後、前記ホウ素含有排水と混合し、第1工程で蒸発処理することが好ましく、蒸発処理が減圧蒸留法により行われることが好ましい。
Claim (excerpt):
ホウ素含有排水を蒸発処理して濃縮液と凝縮液とに分離する第1工程と、第1工程の凝縮液を凝集沈殿処理またはイオン交換処理してホウ素を除去する第2工程とからなることを特徴とするホウ素含有排水の処理方法。
IPC (9):
C02F 1/58
, B01D 3/10
, C02F 1/04
, C02F 1/42
, C02F 1/52
, C02F 9/00 502
, C02F 9/00
, C02F 9/00 503
, C02F 9/00 504
FI (11):
C02F 1/58 H
, B01D 3/10
, C02F 1/04 C
, C02F 1/42 E
, C02F 1/52 K
, C02F 9/00 502 B
, C02F 9/00 502 P
, C02F 9/00 502 J
, C02F 9/00 503 G
, C02F 9/00 504 B
, C02F 9/00 504 E
Patent cited by the Patent: