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J-GLOBAL ID:200903090026800247

水素分離膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 光石 俊郎 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992244643
Publication number (International publication number):1994091144
Application date: Sep. 14, 1992
Publication date: Apr. 05, 1994
Summary:
【要約】【目的】 欠陥がなく水素透過性能に優れる水素分離膜を簡易に製造できる方法を提供する。【構成】 金属多孔体を基材とし、この基材表面にセラミックスを溶射した後、減圧プラズマ溶射法によりパラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成し、その後ブラスト処理し、さらに、高温加熱処理する。
Claim (excerpt):
金属多孔体を基材とし、この基材表面にセラミックスを溶射した後、減圧プラズマ溶射法によりパラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成し、さらに該パラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜表面をブラスト処理し、次いで高温加熱処理することを特徴とする水素分離膜の製造方法。
IPC (3):
B01D 71/02 500 ,  C01B 3/56 ,  B01D 67/00

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