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J-GLOBAL ID：200903090058363469

プラズマ処理装置

Inventor： 渡辺 成一 ,  古瀬 宗雄 ,  白米 茂
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994046820
Publication number (International publication number)：1995263191
Application date： Mar. 17, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【構成】プラズマ処理装置において、多極磁場と高周波電圧を印加できるコイル3を、処理室1外周部あるいは放電室外周部に設けるよう構成した。【効果】壁面でのプラズマ損失が低減するため、より高密度のプラズマが生成でき、また、より低圧力領域でも容易にプラズマを生成することが可能であるという効果がある。

Claim (excerpt)：

プラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、多極磁場と高周波電圧を印加できるコイルを、処理室外周部あるいは放電室外周部に設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/31 C