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J-GLOBAL ID：200903090078445577

光導波路装置の製造方法

Inventor： 高山 一也 ,  杉原 興浩 ,  戒能 俊邦 ,  牧野 朋未 ,  田尻 浩三
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  株式会社日本触媒
Agent (4)： 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005330617
Publication number (International publication number)：2007139898
Application date： Nov. 15, 2005
Publication date： Jun. 07, 2007
Summary：

【課題】口径や形状が異なるコアを一つの光導波路装置に容易に設けることのできる新規な光導波路装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光導波路装置の製造方法は、基板の表面をダイシングして、基板の表面に溝を形成した第一の型を作製する工程と、前記第一の型を用いてクラッド成型用の第二の型を成型する工程と、前記第二の型を用いて高分子材料のクラッドを成型する工程とを有することを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基板の表面をダイシングして、基板の表面に溝を形成した第一の型を作製する工程と、 前記第一の型を用いてクラッド成型用の第二の型を成型する工程と、前記第二の型を用いて高分子材料のクラッドを成型する工程とを有することを特徴とする光導波路装置の製造方法。

IPC (1)：

G02B 6/13

FI (1)：

G02B6/12 M

F-Term (25)：

2H147BA02 ,  2H147BA10 ,  2H147EA13D ,  2H147EA14C ,  2H147EA14D ,  2H147EA16B ,  2H147EA16D ,  2H147EA17B ,  2H147EA18D ,  2H147EA19B ,  2H147EA20A ,  2H147EA20B ,  2H147FA17 ,  2H147FC08 ,  2H147FD05 ,  2H147FD06 ,  2H147FD08 ,  2H147FD13 ,  2H147FD14 ,  2H147FD15 ,  2H147FD16 ,  2H147FD19 ,  2H147FE02 ,  2H147FF03 ,  2H147GA16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 高分子光導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-145200   Applicant：日本電信電話株式会社
• 高分子光導波路製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-138175   Applicant：三井化学株式会社
• 高分子光導波路の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-347948   Applicant：富士ゼロックス株式会社